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  IEEE EDS Japan/Kansai Chapter 会員各位

  IEEE SSCS Japan/Kansai Chapter会員各位

 

 

  IEEE Electron Devices Society Japan Chapter

 

                        Chair 木村 紳一郎

                      Vice Chair 鳥海 明

 

 

  IEEE Electron Devices Society が共催しております

  2010 Symposium on VLSI Technology

  の投稿締切日が間近です。奮って投稿ください。

 

 

  ■■■2011 Symposium on VLSI Technology投稿の御案内■■■

★投稿締切日迫る!:201112417:00(JST)

Late News投稿募集!(締切日2011324)

★サテライトWSとして、Si Nanoelectronics Workshop(612日〜13)に加え

Spintronics Workshop on LSI(613)も開催★

 

本国際会議は、VLSI技術・回路に関する最先端の成果が発表される最高峰の国際会議

の一つとして位置づけられており、京都・ハワイで隔年6月に開催しております。

2011年は61316日に京都(リーガロイヤルホテル京都)で開催致します(613日、

ショートコース、1416日、本会議)。特に2011年度の会議では、VLSI技術の深耕化

・広範化に対応し、Focus Sessionとして、「Design Enablement」「3D LSI」の2

ッションを設け、新デバイスや新技術、新材料が回路設計に及ぼすインパクト、およ

び、三次元LSI実用に向けた最新の技術や課題について深く議論いたします。国内外

の大学、研究機関、産業界の多くの方々に是非御投稿・参加していただき、活発な議

論を重ねる場を提供できることを願っております。

 

●対象分野・スコープ:

VLSI実現のための基礎理論・基礎技術からシステム・インテグレーション技術まで

- New concepts and breakthroughs in VLSI processes and devices including

Memory, Logic, I/O, and I/F (RF/Analog/Mixed-Signal/High-Voltage, Imager,

MEMS, etc.)

- Advanced gate stacks and interconnects in VLSI processes and devices

- Advanced lithography and fine-patterning technologies for high-density

VLSI

- New functional devices beyond CMOS with a path for VLSI implementation

- Packing of VLSI devices including 3D-system integration

- Advanced device analysis, materials and modeling for VLSIs

- Reliability related to the above devices

- Theories and fundamentals related to the above devices

- New concepts and technologies for VLSI manufacturing

- Design enablement (including technology impacts on circuit design in

advanced CMOS nodes)

- Heterogeneous integration of non-Si substrates/materials on Si substrate

●投稿締切:2011124()17:00 (JST)

●会議詳細:http://www.vlsisymposium.org/index.html

 

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  IEEE EDS Japan Chapter連絡先:Secretary 鳥居 和功

  E-mail:kazuyoshi.torii@ieee.org

  Home page:http://www.ieee-jp.org/section/tokyo/chapter/ED-15/

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